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기사입력 : 2023.11.09 10:18
시노펙스는 9일 10나노급 AF필터(불소수지필터 : All-fluoropolymer 필터, ePTFE 소재)생산 시설구축을 위한 설비투자를 결정했다고 밝혔다.
AF필터는 ePTFE 소재를 사용하는 필터로 반도체 세정공정에서 사용되는 불산, 황산, 질산 같은 강산에서 견디면서도 나노급 크기의 불순물을 제거하는 역할을 한다.
특히 필터 자체에서 발생 가능한 용출물 농도를 PPT(Part per trillion, 수조 분의 일) 수준으로 관리해야 하는 것이 특징으로 현재는 전량 수입에 의존하고 있는 상황이다.
최근, 반도체 산업계에서는 10~20나노급의 고성능 필터가 사용되며 최첨단 10나노급 이하의 반도체 생산을 위해서는 10나노 이하의 필터가 필수적으로 필요한 상황이다.
시노펙스는 AF필터에 사용되는 PTFE 소재 국산화를 위해 △2019년부터 국책과제로 연구개발을 시작했으며 △2020년 ePTFE 소재 벤처기업인 프론텍 흡수합병 △올해 3월에는 20나노급 파일롯 시설을 갖추어 해외 글로벌 업체수준의 R&D 역량을 확보했다.
시노펙스가 이번에 투자하는 ePTFE 생산 설비는 필터의 기공사이즈가 성인 평균 머리카락 두께(평균 약 100마이크로미터)의 약 1만분의 1에 해당하는 10나노급의 초미세 기공을 만드는 멤브레인 필터 기술이 적용되며, 이는 국내에서 처음 적용되는 기술이다.
나노급의 ePTFE 필터의 경우 첨단 반도체 제조 공정에 필수적으로 사용되고 있으나 현재까지는 국내 개발 사례가 전무해 전량 수입에 의존하고 있다.
시노펙스는 이미 글로벌 1위 반도체 기업에 CMP필터 국산화해 공급하며 기술력을 인정 받았으며, 이번에 투자하는 AF필터는 국내 반도체 및 디스플레이 산업에 필수적으로 사용되며, 국내 시장만 연간 약 1500억원 규모로 추정된다.
